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題名 | 半導體光阻材料技術=Semiconductor Photoresist Material Technology |
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作者姓名(中文) | 吳耀庭; | 書刊名 | 工業材料 |
卷期 | 436 2023.04[民112.04] |
頁次 | 頁51-64 |
專輯 | 半導體有機材料技術專題 |
分類號 | 448.614 |
關鍵詞 | 微影; 臨界尺寸; 化學增幅型光阻; 極紫外光; Lithography; Critical dimension; CD; Chemical amplification resist; Extreme ultraviolet; EUV; |
語文 | 中文(Chinese) |