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| 題 名 | 半導體光阻材料技術=Semiconductor Photoresist Material Technology |
|---|---|
| 作 者 | 吳耀庭; | 書刊名 | 工業材料 |
| 卷 期 | 436 2023.04[民112.04] |
| 頁 次 | 頁51-64 |
| 專 輯 | 半導體有機材料技術專題 |
| 分類號 | 448.614 |
| 關鍵詞 | 微影; 臨界尺寸; 化學增幅型光阻; 極紫外光; Lithography; Critical dimension; CD; Chemical amplification resist; Extreme ultraviolet; EUV; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |