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題名 | IC光阻材料技術發展 |
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編 次 | 上 |
作者姓名(中文) | 林松香; 曾朝輝; | 書刊名 | 工業材料 |
卷期 | 189 2002.09[民91.09] |
頁次 | 頁175-178 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 光阻劑; 光微影技術; 深紫外光; 真空紫外光; 極紫外光; 萘醌重氮; 酚醛樹脂; 化學增幅; 感光物; 光酸產生劑; 奈米技術; Photoresists; PR; Photo microlithography; Deep ultra violet; DUV; Vacuum ultra violet; VUV; Extreme ultra violet; EUV; DNQ; Novolak; Chemical amplified; CA; Photo active compound; PAC; Photo acid generator; PAG; Nano technology; |
語文 | 中文(Chinese) |