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題 名 | IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究=Study on Synthesis and Lithographic Performance of 193nm Photoresist |
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作 者 | 柯正達; 傅士奇; 謝國煌; | 書刊名 | 國立臺灣大學工程學刊 |
卷 期 | 84 2002.02[民91.02] |
頁 次 | 頁67-83 |
專 輯 | 化學工程專輯 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 化學增幅型光阻劑; 193nm微影術; 壓克力樹脂; 脫水反應動力; 多環系樹脂; CAMP; 193nm lithography; Methacrylate; Kinetics of dehydration; Cycloolefin; |
語 文 | 中文(Chinese) |