查詢結果分析
來源資料
頁籤選單縮合
| 題 名 | 積體電路製程之最適化微影技術的探討=A Study on the Fabrication of Integrated Circuits through Optimized Microlithographic Technique |
|---|---|
| 作 者 | 劉宗宏; | 書刊名 | 修平學報 |
| 卷 期 | 6 2003.03[民92.03] |
| 頁 次 | 頁49-64 |
| 分類號 | 484.51 |
| 關鍵詞 | 化學增幅型光阻; 微影製程; 積體電路; 製程敏感度; 線寬均勻度; Chemical amplification resist; Microlithographic process; Integrated circuits; Process sensitivity; CD-uniformity; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |