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題名 | 積體電路製程之最適化微影技術的探討=A Study on the Fabrication of Integrated Circuits through Optimized Microlithographic Technique |
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作者 | 劉宗宏; | 書刊名 | 修平學報 |
卷期 | 6 2003.03[民92.03] |
頁次 | 頁49-64 |
分類號 | 484.51 |
關鍵詞 | 化學增幅型光阻; 微影製程; 積體電路; 製程敏感度; 線寬均勻度; Chemical amplification resist; Microlithographic process; Integrated circuits; Process sensitivity; CD-uniformity; |
語文 | 中文(Chinese) |