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來源資料
科儀新知
27:2=148 民94.10
頁24-29
電機工程
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電燈之特殊應用
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題 名
用於次25奈米極紫外光曝光機之新穎反射型衰減式相位移光罩=A Novel Structure of Reflective Type Attenuated-Phase-Shifting-Masks for Sub-25 nm Extreme Ultraviolet Exposure Tools
作 者
陳學禮
;
鄭旭君
;
洪鶯玲
;
朱鐵吉
;
書刊名
科儀新知
卷 期
27:2=148 民94.10
頁 次
頁24-29
分類號
448.59
關鍵詞
相位移光罩
;
解析度增益技術
;
極紫外光微影術
;
EUV
;
語 文
中文(Chinese)
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