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題名 | 利用Fabry-Perot型抗反射層結構提升極紫外光微影光罩圖形檢視對比度之技術 |
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作者 | 陳學禮; 柯宗憲; 鄭旭君; 朱鐵吉; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷期 | 11:3 2004.08[民93.08] |
頁次 | 頁1-5 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 抗反射層; 極紫外光微影術; 吸收層; 緩衝層; Extreme ultraviolet lithography; Absorber; Buffer layer; Antireflective coatings; Fabry-perot; |
語文 | 中文(Chinese) |