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來源資料
電子月刊
20:9=230 2014.09[民103.09]
頁56-78
電機工程
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電燈廠
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題名
極紫外光(EUV)光阻之發展與挑戰
作者姓名(中文)
張書豪
;
簡銘進
;
簡上傑
;
吳瑞慶
;
陳政宏
;
嚴濤南
;
書刊名
電子月刊
卷期
20:9=230 2014.09[民103.09]
頁次
頁56-78
專輯
IC製程技術專輯
分類號
448.57
關鍵詞
極紫外光
;
光阻
;
極紫外光微影製程
;
EUV
;
語文
中文(Chinese)
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