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來源資料
電子月刊
14:9=158 2008.09[民97.09]
頁144-158
電機工程
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電燈廠
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題名
極紫外光(EUV)微影光阻發展現況
作者姓名(中文)
鄭秀英
;
書刊名
電子月刊
卷期
14:9=158 2008.09[民97.09]
頁次
頁144-158
專輯
IC製程技術專輯
分類號
448.57
關鍵詞
極紫外光
;
微影技術
;
光阻
;
Extreme ultraviolet
;
EUV
;
Lithography
;
Photoresist
;
語文
中文(Chinese)
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