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題名 | 簡介紫外光硬化奈米轉印技術=UV-Curable Nanoimprint |
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作者 | 鄭瑞庭; |
期刊 | 機械工業 |
出版日期 | 20040800 |
卷期 | 257 2004.08[民93.08] |
頁次 | 頁163-174 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 紫外光硬化奈米轉印; 電子束直寫微影技術; 熱壓式奈米轉印; 多層對準; 殘餘光阻; E-beam direct write lithography; Hot embossing nanoimprint; Multi-level alignment; Residual layer; UV-curable nanoimprint; |