頁籤選單縮合
題名 | 簡介紫外光硬化奈米轉印技術=UV-Curable Nanoimprint |
---|---|
作者 | 鄭瑞庭; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 257 2004.08[民93.08] |
頁次 | 頁163-174 |
專輯 | 微機電技術專輯 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 紫外光硬化奈米轉印; 電子束直寫微影技術; 熱壓式奈米轉印; 多層對準; 殘餘光阻; E-beam direct write lithography; Hot embossing nanoimprint; Multi-level alignment; Residual layer; UV-curable nanoimprint; |
語文 | 中文(Chinese) |