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題 名 | CVD腔體高溫流場影響研究=Investigation of Flow Patterns in High Temperature Chemical Vapor Deposition Reactor |
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作 者 | 劉耀先; 彭冠中; 黃智勇; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 387 2015.06[民104.06] |
頁 次 | 頁45-52 |
專 輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 化學氣相沉積; 粒子影像測速儀; 流場可視化; Chemical vapor deposition; Particle image velocimetry; Flow visualization; |
語 文 | 中文(Chinese) |