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題名 | MOCVD反應室內基板旋轉對流場之影響研究=Effect of Substrate Rotation on Flow Field Distribution in MOCVD Reactor |
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作 者 | 王慶鈞; 黃智勇; 陳建志; 簡榮楨; 陳志勇; 曾力瑋; 王京璽; 劉耀先; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 338 2011.05[民100.05] |
頁次 | 頁154-160 |
專輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 有機金屬化學氣相沉積; 粒子影像測速儀; 發光二極體; 旋轉; 磊晶; Metal organic chemical vapor deposition; Particle image velocimeter; Light emitting diode; LED; Rotation; Epitaxy; |
語文 | 中文(Chinese) |