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來源資料
真空科技
19:2 民95.11
頁147-152
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題名
創新性無電鍍沉積超薄鈷基阻障層在銅金屬化之應用
作者姓名(中文)
陳松德
;
唐英森
;
李健志
;
陳錦山
;
書刊名
真空科技
卷期
19:2 民95.11
頁次
頁147-152
分類號
448.552
關鍵詞
無電鍍晶種
;
阻障層
;
銅金屬化
;
Co-B
;
Co-W-B
;
語文
中文(Chinese)
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