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題名 | 不同矽膜厚度與預熱溫度之矽膜再結晶特性研究與分析=Effect of Various Silicon Film Thickness and Substrate Temperature on Characterization of Silicon Thin Films |
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作者姓名(中文) | 郭啟全; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 300 2008.03[民97.03] |
頁次 | 頁144-150 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 矽膜; 預熱; 熔化時間; 光學檢測技術; 準分子雷射退火; Silicon thin films; Substrate heating; Melt duration; Optical measurements; Excimer laser annealing; |
語文 | 中文(Chinese) |