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| 題 名 | 不同矽膜厚度與預熱溫度之矽膜再結晶特性研究與分析=Effect of Various Silicon Film Thickness and Substrate Temperature on Characterization of Silicon Thin Films |
|---|---|
| 作 者 | 郭啟全; | 書刊名 | 機械工業 |
| 卷 期 | 300 2008.03[民97.03] |
| 頁 次 | 頁144-150 |
| 分類號 | 448.5 |
| 關鍵詞 | 矽膜; 預熱; 熔化時間; 光學檢測技術; 準分子雷射退火; Silicon thin films; Substrate heating; Melt duration; Optical measurements; Excimer laser annealing; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |