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題 名 | CMP的超越技術--臺灣主導全球半導體製造的契機(下)=The Excelled Technology for CMP--Taiwan's Opportunity to Lead the World in the Manufacture of Semiconductors (2) |
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作 者 | 宋健民; | 書刊名 | 工業材料 |
卷 期 | 254 2008.02[民97.02] |
頁 次 | 頁156-163 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 化學機械平坦化; 鑽石碟; 半導體; 摩爾定律; Chemical mechanical planarization; CMP; eCMP; Diamond disk; PCD; Semiconductor; 32nm; Moore's law; |
語 文 | 中文(Chinese) |