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| 題 名 | Characteristics of C-axis Oriented AlN Films Grown by Reactive DC Magnetron Sputtering=使用反應性直流磁控濺鍍法成長C軸排向氮化鋁薄膜 |
|---|---|
| 作 者 | 洪榮昌; 鄭建銓; | 書刊名 | 四海學報 |
| 卷 期 | 13 1999.04[民88.04] |
| 頁 次 | 頁113-122 |
| 分類號 | 440.34 |
| 關鍵詞 | 氮化鋁; 反應性直流磁控濺鍍; X光繞射儀; 掃描式電子顯微境; Aluminum nitride; Reactive DC magnetron sputtering; X-ray diffraction; Scanning electron microscopy; |
| 語 文 | 英文(English) |