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題名 | Fluorocarbon Polymerization在Helicon wave電漿SiO[feaf]蝕刻製程中扮演的角色 |
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作者 | 江明崇; 邱顯光; | 書刊名 | 國科會國家毫微米元件實驗室通訊 |
卷期 | 4:1 1997.03[民86.03] |
頁次 | 頁16-21 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 電漿; 蝕刻; Fluorocarbon Polymerization; Helicon wave; SiO[feaf]; |
語文 | 中文(Chinese) |