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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:5=46 1999.05[民88.05]
- 頁 次:
頁156-162
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
197 1999.08[民88.08]
- 頁 次:
頁129-134
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
198 1999.09[民88.09]
- 頁 次:
頁188-198
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- 題 名:
An Accurate Determination of P狇Silicon Layer Thickness for Microstructures:微結構的高濃度摻硼薄膜厚度的精確測定
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:2 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁107-111
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
127 1988.07[民77.07]
- 頁 次:
頁27-31
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:2 1988.06[民77.06]
- 頁 次:
頁135-140
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
75 1999.09[民88.09]
- 頁 次:
頁49-57
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:12=53 1999.12[民88.12]
- 頁 次:
頁126-131
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:3 1999.09[民88.09]
- 頁 次:
頁166-168
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- 題 名:
Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching:金屬蝕刻時電漿充電損害效應的探討
- 作 者:
- 書刊名:
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
- 卷 期:
22:3 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁416-424
- 題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:9=38 1998.09[民87.09]
- 頁 次:
頁99-106
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:12=41 1998.12[民87.12]
- 頁 次:
頁96-102
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
187 1998.10[民87.10]
- 頁 次:
頁183-193
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:9=50 1999.09[民88.09]
- 頁 次:
頁178-180
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
124 1988.04[民77.04]
- 頁 次:
頁26-29
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 1999.02[民88.02]
- 頁 次:
頁58-64
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
145 1999.01[民88.01]
- 頁 次:
頁142-143
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
43 1992.04[民81.04]
- 頁 次:
頁9-46
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
51 1992.04[民81.04]
- 頁 次:
頁69-74