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題名 | 微小光學元件製作技術應用=Micro-optical Device Manufacturing Technology |
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作者 | 陳秀香; |
期刊 | 光學工程 |
出版日期 | 20010900 |
卷期 | 75 2001.09[民90.09] |
頁次 | 頁58-64 |
分類號 | 448.57 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 微影; 電漿蝕刻; IC製程; 微光學; Lithography; Plasma etching; IC process; Micro-optics; |
中文摘要 | 近年來由於高科技產業的蓬勃發展,IC 製程技術不斷地進步,加上消費性 3C 電 子產品亦朝向輕薄短小發展,例如數位影音光碟機,數位相機,數位攝錄影機等等。而在這 些微小系統中嵌入微小光學元件已是關鍵技術, 其中例如繞射光學元件( diffractive optical elements )不僅可以實現傳統光學元件所無法實現之特殊功能, 而且具有體積小 、重量輕、結構緊密、可大量複製和成本低等優點。使得光學系統朝向輕型化、微型化、體 積化等方向發展。而 IC 製程的應用便是達到製作微小光學元件的方法之一。故本文中將對 IC 製程應用在製造光學元件的製程作詳加介紹。 |
英文摘要 | Recently, high technology industry is rising. IC process technology is advancing and consumable 3C electronic product towards light、 thin、 short and small, for example, digital VCD、 digital camera and digital V8. The key technology is to put the micro-optical device into the micro system. For example, diffractive optical elements can take the special function for traditional optical device, and it has many advantages for small volume、 light weight、 dense structure、 mass production and low cost. So, the future optical system is toward light、 micro and bulk. One of the methods to manufacture micro optical device is to apply the IC process. In this text we will delicate discuss about the IC process applied in manufacture optical device process. |
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