您的瀏覽器不支援或未開啟JavaScript功能,將無法正常使用本系統,請開啟瀏覽器JavaScript功能,以利系統順利執行。
返回
/NclService/
快速連結
跳到主要內容
:::
首頁
關於本站
網站導覽
聯絡我們
國家圖書館
English
開啟查詢結果分析
查詢資訊
期刊論文索引(找篇目)
期刊指南(找期刊)
近代 (1853-1979年) 港澳華文期刊索引
漢學中心典藏大陸期刊論文索引
中國文化研究論文目錄
期刊瀏覽
檢索歷程
期刊授權
出版機構
公佈欄
常見問題
軟體工具下載
:::
首頁
>
查詢資訊
>
期刊論文索引查詢
>
詳目列表
查詢結果分析
來源資料
先進工程學刊
9:4 2014.10[民103.10]
頁199-203
電機工程
>
電燈;照明電器
相關文獻
BPSG薄膜特性分析研究與沉積製程優化
雙層金屬CMOS製程之平坦化和通孔蝕刻
應用於雙層金屬製程之尖端削除平坦化技術
光放大器技術與最新發展
晶片CMP製程之機械磨耗機制研究與實驗探討
鑽石碟修整器:化學機械平坦化(CMP)的催生者
化學機械研磨技術簡介
鑽石碟修整器--化學機械平坦化(CMP)的催生者
化學機械拋光製程技術
90奈米與65奈米技術節點平面化之挑戰
頁籤選單縮合
基本資料
引用格式
國圖館藏目錄
全國期刊聯合目錄
勘誤回報
我要授權
匯出書目
題名
BPSG薄膜特性分析研究與沉積製程優化=Study of BPSG Film Characteristics and Deposition Processing Optimization
作者姓名(中文)
詹益禎
;
温武義
;
書刊名
先進工程學刊
卷期
9:4 2014.10[民103.10]
頁次
頁199-203
分類號
448.5
關鍵詞
硼磷矽玻璃薄膜
;
平坦化
;
電漿強化式化學氣相沈積法
;
BPSG film
;
Planarization
;
PECVD
;
語文
中文(Chinese)
頁籤選單縮合
推文
引用網址
引用嵌入語法
Line
FB
Google bookmarks
本文的引用網址:
複製引用網址
本文的引用網址:
複製引用網址