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來源資料
電子發展月刊
127 1988.07[民77.07]
頁27-31
電機工程
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電燈廠
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題 名
雙層金屬CMOS製程之平坦化和通孔蝕刻
作 者
趙芳慶
;
書刊名
電子發展月刊
卷 期
127 1988.07[民77.07]
頁 次
頁27-31
分類號
448.57
關鍵詞
平坦化
;
金屬
;
通孔
;
蝕刻
;
製程
;
雙層
;
語 文
中文(Chinese)
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