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題名 | 低溫多晶矽膜表面粗糙度研究 |
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作者 | 郭啟全; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 20:2-4 2008.02[民97.02] |
頁次 | 頁27-42 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 表面粗糙度; 低溫多晶矽膜; 矽膜; 準分子雷射結晶; Surface roughness; Low-temperature polycrystalline silicon; Si thin films; Excimer laser crystallization; |
語文 | 中文(Chinese) |