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題 名 | 利用長距離的磁控濺鍍技術於室溫下成長ITO薄膜=Room Temperature Growth of ITO Films by Long-Throw Magnetron Sputtering |
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作 者 | 莊妙如; | 書刊名 | 建國科大學報 |
卷 期 | 29:2 2010.01[民99.01] |
頁 次 | 頁57-67 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 濺鍍; 透明導電膜; X光繞射儀; Sputtering; Transparent conductive oxide; X-ray diffractometry; |
語 文 | 中文(Chinese) |