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題名 | 準分子雷射退火矽膜之再結晶機制研究=Recrystallization Mechanism of Polycrystalline Silicon Thin Films Fabricated by Excimer Laser Annealing |
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作者 | 郭啟全; |
期刊 | 機械工業 |
出版日期 | 20090300 |
卷期 | 312 2009.03[民98.03] |
頁次 | 頁94-108 |
分類號 | 448.552 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 再結晶機制; 多晶矽膜; 準分子雷射退火; 矽膜; Recrystallization mechanism; Polycrystalline silicon thin films; Excimer laser annealing; Silicon thin films; |