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| 題 名 | 準分子雷射退火矽膜之再結晶機制研究=Recrystallization Mechanism of Polycrystalline Silicon Thin Films Fabricated by Excimer Laser Annealing |
|---|---|
| 作 者 | 郭啟全; | 書刊名 | 機械工業 |
| 卷 期 | 312 2009.03[民98.03] |
| 頁 次 | 頁94-108 |
| 分類號 | 448.552 |
| 關鍵詞 | 再結晶機制; 多晶矽膜; 準分子雷射退火; 矽膜; Recrystallization mechanism; Polycrystalline silicon thin films; Excimer laser annealing; Silicon thin films; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |