頁籤選單縮合
| 題 名 | 低溫多晶矽膜之凝固速率研究=Solidification Velocity in Low-temperature Polycrystalline Silicon Films |
|---|---|
| 作 者 | 郭啟全; | 書刊名 | 工業材料 |
| 卷 期 | 266 2009.02[民98.02] |
| 頁 次 | 頁146-161 |
| 分類號 | 448.552 |
| 關鍵詞 | 凝固速率; 準分子雷射退火; 多晶矽膜; Solidificaiton velocity; Excimer laser annealing; Polycrystalline silicon thin films; Poly-Si thin films; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |