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題 名 | 準分子雷射退火矽膜之凝固速率研究與分析=Solidification Velocity in Polycrystalline Silicon Thin Films during Excimer Laser Crystallization |
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作 者 | 郭啟全; | 書刊名 | 建國科大學報 |
卷 期 | 27:4 2008.07[民97.07] |
頁 次 | 頁13-29 |
分類號 | 448.59 |
關鍵詞 | 凝固速率; 準分子雷射退火; 矽膜; Solidification velocity; Excimer laser crystallization; Silicon thin films; |
語 文 | 中文(Chinese) |