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題 名 | 射頻磁控濺鍍法製備Ni/Al[feaf]O[feb0]陶金薄膜及其特性分析=R.F. Magnetron Sputtered Deposited Ni/Al[feaf]O[feb0] Cermet Thin Films |
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作 者 | 戴成奇; 邱國峰; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 16:4 2004.04[民93.04] |
頁 次 | 頁23-27 |
分類號 | 472.2 |
關鍵詞 | 射頻磁控濺鍍; Ni/Al[feaf]O[feb0]陶金薄膜; 靶材; 鎳/二氧化鋁陶金薄膜; |
語 文 | 中文(Chinese) |