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題名 | PVD濺鍍靶材之應用、市場與發展趨勢= |
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作者 | 溫志中; |
期刊 | 工業材料 |
出版日期 | 20001200 |
卷期 | 168 2000.12[民89.12] |
頁次 | 頁105-111 |
分類號 | 440.34 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 濺鍍靶材; 半導體; 記錄媒體; 平面顯示器; 光學鍍膜; Sputtering target; Semiconductor; Data storage media; Flat panel display; Optical coating; |
中文摘要 | 在國內半導體、光碟製造及平面顯示器等產業規模逐漸領先全世界之 時,這些產業所使用之超高純度金屬及濺鍍靶材數量也將愈來愈可觀,因應國內 市場之需求,工研院材料所已展開相關之研發工作。本文將就國內產業所需之濺 鍍靶材應用及市場做一完整之分析,俾提供國內有興趣加入開發行列之廠家參 考。 |
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