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來源資料
真空科技
14:2 2001.07[民90.07]
頁61-69
機械工程
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壓力機械;液壓機械;油壓機械
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題 名
半導體/平面顯示器產業用之真空幫浦發展現況
作 者
鄭鴻斌
;
書刊名
真空科技
卷 期
14:2 2001.07[民90.07]
頁 次
頁61-69
分類號
446.74
關鍵詞
半導體
;
平面顯示器
;
真空幫浦
;
語 文
中文(Chinese)
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