頁籤選單縮合
題 名 | Fluorocarbon Polymerization在Helicon wave電漿SiO[feaf]蝕刻製程中扮演的角色 |
---|---|
作 者 | 江明崇; 邱顯光; | 書刊名 | 國科會國家毫微米元件實驗室通訊 |
卷 期 | 4:1 1997.03[民86.03] |
頁 次 | 頁16-21 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 電漿; 蝕刻; Fluorocarbon Polymerization; Helicon wave; SiO[feaf]; |
語 文 | 中文(Chinese) |