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題名 | 化學氣相沉積配位化合物:基本物性控制與合成策略=Coordination Compounds as CVD Precursors: Strategies for Tuning Their Chemical and Physical Properties |
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作者 | 黃淑芬; 季昀; Huang, Shu-fen; Chi, Yun; |
期刊 | 化學 |
出版日期 | 200303 |
卷期 | 61:1 2003.03[民92.03] |
頁次 | 頁39-47 |
分類號 | 346.01 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 化學氣相沉積; 金屬薄膜; 多元金屬氧化物; 配位化合物; Chemical vapor deposition; Thin film; Organometallic; Coordination compounds; Semiconductor technology; |