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題 名 | 利用準分子雷射微細加工後之選擇性銅沉積技術之研究 |
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作 者 | 高端環; 魏茂國; | 書刊名 | 機械工業 |
卷 期 | 185 1998.08[民87.08] |
頁 次 | 頁143-149 |
專 輯 | 奈米工程暨微機電系統技術專輯 |
分類號 | 472.16 |
關鍵詞 | 準分子雷射; 選擇性銅沉積; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 由於傳統的金屬沈積技術無法應用於微小線寬之選擇性金屬沈積,因此本實驗使 用KrF準分子雷射加工高分子材料,接著再利用活化劑與無電鍍沈積技術,在試片表面做選 擇性之銅沈積。因此,本實驗將先針對所使用的無電鍍銅溶液,進行銅沈積速率和鍍液穩 定性之探討,而後研究活化劑與高分子材料對於選擇性銅沈積之影響。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。