查詢結果分析
來源資料
頁籤選單縮合
題名 | 以化學氣相沈積成長金屬碳化物及金屬氮化物薄膜=Chemical Vapor Deposition of Metal Carbide and Nitride Thin Films |
---|---|
作者姓名(中文) | 裘性天; | 書刊名 | 化學 |
卷期 | 56:2 1998.06[民87.06] |
頁次 | 頁121-124 |
分類號 | 346 |
關鍵詞 | 化學氣相沈積; 金屬碳化物; 金屬氮化物; 單源前驅物; Chemical vapor deposition; CVD; Metal carbide; Metal nitride; Single-source precursor; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文簡單的回顧近期以化學氣相沈積法成長金屬碳化物及金屬氮化物之實例。 |
英文摘要 | Examples of recent development in chemical vapor deposition of metal carbides and nitrides will be briefly reviewed. |
本系統之摘要資訊系依該期刊論文摘要之資訊為主。