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題名 | 半導體CVD製程中氣體及化學品之管理 |
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作者 | 邱木全; 陳俊瑜; | 書刊名 | 化工 |
卷期 | 48:4=216 2001.08[民90.08] |
頁次 | 頁125-133 |
專輯 | 化工製程本質安全設計與應用專刊 |
分類號 | 555.56 |
關鍵詞 | 化學氣相沈積; 氣體; 化學品; 製程安全評估管理; Chemical Vapor Deposition; CVD; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 半導體化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition, CVD)製程中,氣體及化學品 之用量極為頻繁, 形成危害的狀況亦多數來自氣體及化學品之洩漏問題,瞭解於 CVD 製程 中氣體及化學品之使用與操作情形,透過半導體製程安全衛生問題的探討,可以清楚知道在 製程中使用的材料設備可能發生的危險效應,以及整個流程中各原料和生成物及廢棄之固、 液、氣相間可能產生的反應,並有助於製程安全評估管理事宜之進行。 |
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