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題 名 | The Role of Hydrocarbon and Oxygen on Diamond Syntheses by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition=碳氫化合物與氧氣對微波電漿化學氣相法合成鑽石之研究 |
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作 者 | 朱俊勳; 陳文東; 洪敏雄; 王東波; | 書刊名 | 材料科學 |
卷 期 | 25:4 1993.12[民82.12] |
頁 次 | 頁244-254 |
分類號 | 341.393 |
關鍵詞 | 鑽石; 微波; 電漿; 化學氣相沉積法; Diamond; Microwave; Plasma; CVD; |
語 文 | 英文(English) |
中文摘要 | 本文係利用微波電漿化學氣相沉積法,於低溫低壓蒸鍍系統下,使用不 同的碳氫化合物作為反應碳源,將鑽石薄膜成長於矽晶片上,藉由改變反應氣體 種類,反應氣體濃度,蒸鍍溫度等製程參數與氧氣的添加,探討其在合成鑽石薄 膜中所扮演的角色。不同的碳氫化合物作為反應碳源所合成的鑽石薄膜成長特 性,受到C/H原子比例與氣體離子化電位能的影響。在不同的成長溫度下,藉由 少量氧氣的添加,可同時提高鍍膜品質與成長速度。沉積覆膜的性質,使用掃描 式電子顯微鏡,拉曼光譜與x光繞射儀評估。 |
英文摘要 | Polycrystalline diamond was synthesized on Si(111) substrate by microwave plasma chemicalvapor deposition using various hydrocarbon as the carbon source gas. The C/H atomic ratio andionization potential were used to characterize the deposits. The quality and growth rate of depositeddiamond were improved by adding a small amount of oxygen in the gas mixtures. The deposits wereevaluated by scanning electron microscopy, Raman spectroscopy and X-ray diffraction. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。