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題名 | 氣流中斷法原子層沉積系統對於薄膜品質的影響=The Flow Rate-interruption Atomic Layer Deposition System on Film Quality |
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作者 | 曾柏憲; 蔡尚祐; 柯富祥; 賴宇紳; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 34:4 2021.12[民110.12] |
頁次 | 頁20 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 原子層沉積系統; 氣流中斷法; 長晶; Atomic layer deposition system; Flow rate-interruption method; Crystal growth; |
語文 | 中文(Chinese) |