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題名 | 原子層沉積系統與奈米結構鍍膜製程=Development of Atomic Layer Deposition and Nanostructured Coating Processes |
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作者姓名(中文) | 蕭健男; 柯志忠; 游智傑; 劉伯亨; | 書刊名 | 真空科技 |
卷期 | 25:2 2012.06[民101.06] |
頁次 | 頁30-38 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 原子層沉積系統; 奈米結構鍍膜; ALD; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文簡述國家實驗室在原子層沉積系統與奈米結構鍍膜技術領域具多樣性及差異化之研發規劃,以妥適整合資源,與學術界互補合作,並期共同建立我國相關自主性真空系統技術平台。 |
英文摘要 | In this article, we would like to outline the developments of diversified atomic layer deposition system and nanostructured coating technologies with great differentiation in ITRC, NARL. Looking forward to being the platform of vacuum technology in Taiwan, ITRC has the obligation to appropriately integrate the process capability and instrument resources, and collaborate with academia and industry. |
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