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來源資料
真空科技
32:2 2019.06[民108.06]
頁18-22
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題 名
具臨場焦耳加熱之原子層沉積系統=Atomic Layer Deposition System with In-situ Joule Heating Capability
作 者
林雨樵
;
柯志忠
;
余友軒
;
楊承燁
;
書刊名
真空科技
卷 期
32:2 2019.06[民108.06]
頁 次
頁18-22
分類號
448.533
關鍵詞
焦耳加熱
;
原子層沉積
;
Joule heating
;
Atomic layer deposition
;
語 文
中文(Chinese)
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