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題 名 | 測試光束斜入射之長條狀平板面精度量測=Oblique Incident Interferometric Measurement for Long-Stripped Flat |
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作 者 | 郭慧君; 張勝聰; 蔡和霖; | 書刊名 | 科儀新知 |
卷 期 | 30:5=169 2009.04[民98.04] |
頁 次 | 頁84-92 |
分類號 | 336.43 |
關鍵詞 | 干涉儀; 光學平板; 同調平行光束; 光束斜入射; 面精度; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 以干涉儀量測光學平板的面精度,必須提供與待測件尺寸相當的同調平行光束。目前在台灣,以國家實驗研究院儀器科技研究中心Zygo干涉儀光束口徑12吋為最大。近年來業界技術要求可量測30cm以上長條型光學平板,以現有干涉儀平行光束正向入射到待測光學平板上,無法一次量測取得所有待測面的面精度。本文主要介紹針對測試光束斜入射之長條狀平板面精度量測的能量建立,說明光學原理、利用光學軟體ZEMAX模擬量測及實際測試結果。由斜向入射之干涉儀測量長條狀光學平板的面精度,量測誤差為1/10波長以下,且調整斜向入射角度可使待測平板長度為量測干涉儀量測光束口徑的兩倍以上。 |
英文摘要 | Peak-to-valley surface wavefront error of a long-stripped flat can be derived by oblique incident setup in case that dimension of the test flat is larger than the beam size of interferometer. Error of measurement in this setup was demonstrated to be lower than (1/10)λ. With proper choice of incident angle, test dimension can be up to more than twofold of beam size. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。