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題名 | 朝向更低能量之離子植入製程新趨勢與超淺接面的製作=New Trends in Ultra-shallow Junction Formation and Low Energy Ion Implantation |
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作者 | 張文亮; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷期 | 19:1 2012.03[民101.03] |
頁次 | 頁35-44 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 超淺接面; 瞬間增強擴散; 植入損傷控制工程; 高質量分子植入; 低溫植入; USJ; TED; Implant damage engineering; High mass molecular implant; Cold implant; |
語文 | 中文(Chinese) |