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題名 | 低壓化學氣相沉積應用技術=Low Pressure Chemical Vapor Deposition Technology |
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作 者 | 梁沐旺; 林士欽; 江源遠; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 363 2013.06[民102.06] |
頁次 | 頁72-81 |
專輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 低壓化學氣相沉積; 霧化裝置; 噴灑曝氣板; 透明導電膜; Low pressure chemical vapor deposition; LPCVD; Vaporizer apparatus; Showerhead; Transparent conductive oxide thin film; TCO; |
語文 | 中文(Chinese) |