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| 題 名 | 低壓化學氣相沉積應用技術=Low Pressure Chemical Vapor Deposition Technology |
|---|---|
| 作 者 | 梁沐旺; 林士欽; 江源遠; | 書刊名 | 機械工業 |
| 卷 期 | 363 2013.06[民102.06] |
| 頁 次 | 頁72-81 |
| 專 輯 | 光電產業設備技術專輯 |
| 分類號 | 448.5 |
| 關鍵詞 | 低壓化學氣相沉積; 霧化裝置; 噴灑曝氣板; 透明導電膜; Low pressure chemical vapor deposition; LPCVD; Vaporizer apparatus; Showerhead; Transparent conductive oxide thin film; TCO; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |