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來源資料
化工技術
9:10=103 2001.10[民90.10]
頁222-232
電化學工業
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電化學工業
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題名
從活性離子蝕刻所產生的破壞和污染對低壓化學氣相沉積反應器中選擇性鎢金屬沉積之影響
作者姓名(中文)
張國明
;
陳弘育
;
葉達勳
;
書刊名
化工技術
卷期
9:10=103 2001.10[民90.10]
頁次
頁222-232
專輯
化工技術與電子工業製程專輯
分類號
468
關鍵詞
活性離子蝕刻
;
低壓化學氣相沉積反應器
;
選擇性鎢金屬沉積
;
RIE
;
語文
中文(Chinese)
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