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題 名 | A Numerical Study on the Evenness of Gas Flow Field in a Vacuum Chamber for Microwave ECR PE-CVD Process on Large Sized Substrates=對以微波電子迴旋共振電漿增強化學氣相沈積法在大面積基材鍍膜之真空腔室內氣體均勻流場之數值研究 |
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作 者 | 孫明宗; 吳振培; | 書刊名 | 中國機械工程學刊 |
卷 期 | 31:5 2010.10[民99.10] |
頁 次 | 頁435-442 |
分類號 | 446.1 |
關鍵詞 | 大型基板; 電子迴旋共振; 電漿增強化學氣相沈積法; Electron cyclotron resonance; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Micro-crystalline Si thin films; Large substrates; |
語 文 | 英文(English) |