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題名 | 成長大面積石墨烯薄膜與多源電子迴旋共振化學氣相沉積設備=Using a Multi-sources Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition System to Grow Large-Area Graphene Film |
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作者姓名(中文) | 賴識翔; 黃昆平; 張志振; 林育霆; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 350 2012.05[民101.05] |
頁次 | 頁117-127 |
專輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 448.5 |
關鍵詞 | 石墨烯; 拉曼; 多源電子迴旋共振化學汽相沉積; Graphene; Raman; MECR CVD; |
語文 | 中文(Chinese) |