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| 題 名 | 成長大面積石墨烯薄膜與多源電子迴旋共振化學氣相沉積設備=Using a Multi-sources Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition System to Grow Large-Area Graphene Film |
|---|---|
| 作 者 | 賴識翔; 黃昆平; 張志振; 林育霆; | 書刊名 | 機械工業 |
| 卷 期 | 350 2012.05[民101.05] |
| 頁 次 | 頁117-127 |
| 專 輯 | 光電產業設備技術專輯 |
| 分類號 | 448.5 |
| 關鍵詞 | 石墨烯; 拉曼; 多源電子迴旋共振化學汽相沉積; Graphene; Raman; MECR CVD; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |