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來源資料
真空科技
33:4 2020.12[民109.12]
頁26
工程學總論
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題 名
使用樟腦於不同種類銅基板上所製備石墨烯之分析比較
作 者
高正宇
;
江秉祐
;
徐偉豪
;
蔡東昇
;
温武義
;
書刊名
真空科技
卷 期
33:4 2020.12[民109.12]
頁 次
頁26
分類號
440.34
關鍵詞
化學氣相沉積
;
石墨烯
;
樟腦
;
單晶銅
;
銅箔
;
拉曼分析
;
穿透式電子顯微鏡
;
CVD
;
Graphene
;
Camphor
;
Copper
;
Raman scattering spectroscopy
;
Transmission electron microscopy
;
語 文
中文(Chinese)
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