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題 名 | 利用二段式常壓化學氣相沉積法在絕緣基板上合成免轉移石墨烯=Transfer-free Synthesis of Graphene on Insulating Substrates by Two-step APCVD |
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作 者 | 許偉誠; 陳柏瑋; 莊家翔; 陳祺; 蔡東昇; 温武義; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 34:3 2021.09[民110.09] |
頁 次 | 頁35 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 常壓化學氣相沉積; 免轉移石墨烯; 鎳催化; 拉曼光譜; Atmospheric pressure chemical vapor deposition; APCVD; Transfer-free graphene; Ni-catalyzed; Raman spectrum; |
語 文 | 中文(Chinese) |