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題名 | 以電子迴旋共振化學氣相沉積法製備高效率奈米晶矽薄膜太陽能電池 |
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作者姓名(中文) | 連水養; 許嘉巡; 黃重鈞; 薛英家; | 書刊名 | 電子月刊 |
卷期 | 18:4=201 2012.04[民101.04] |
頁次 | 頁94-104 |
專輯 | 太陽能光電專輯 |
分類號 | 468.1 |
關鍵詞 | 電子迴旋共振; 高密度電漿; 奈米晶矽; 薄膜太陽能電池; |
語文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 傳統之射頻電漿輔助化學氣相沉積(RF-PECVD)並不適合用來製作奈米晶矽或微晶矽類薄膜太陽能電池,因為其沉積速率太慢及離子轟擊現象嚴重,在薄膜品質及成本考量上使得該技術在堆疊型太陽能電池應用上受到挑戰與限制。本文提出以電子迴旋共振化學氣相沉積(ECRCVD)來製作較厚的奈米晶矽或微晶矽本質層,藉由其高密度電漿提升氣體解離率,使得鍍膜速率可達15 ?sec以上;另一項優點為製程所需之氫氣使用量較低,傳統PECVD需通入至少大於14:1的氫稀釋量才足以發生氫誘發結晶反應,而本研究結果顯示ECRCVD可降低此氫使用量一半以上。經過調變主要製程參數如氫稀釋比及製程壓力,得到的最佳化參數可製作出初始效率7.2%的奈米晶矽薄膜太陽能電池,且經過光衰化測試後其效率衰幅為10%。進一步將ECRCVD所製作的奈米晶矽薄膜應用到非晶矽/奈米晶矽堆疊型結構電池上,取得了10.05%的光電轉換效率,顯示出ECRCVD所具備的巨大潛力及可開發性。 |
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