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來源資料
華岡工程學報
29 2012.06[民101.06]
頁173-177
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題 名
針對金屬閘極TiN堆疊不同厚度之電性探討=Investigation on Electrical Properties of TiN Metal Gate in Different Thickness
作 者
簡瑋志
;
譚湘瑜
;
書刊名
華岡工程學報
卷 期
29 2012.06[民101.06]
頁 次
頁173-177
分類號
448.532
關鍵詞
高介電係數
;
氮化鈦
;
矽氧化鉿
;
金屬-絕緣體-半導體電容
;
High-κ
;
TiN
;
HfSiO
;
MIS capacitance
;
語 文
中文(Chinese)
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