查詢結果分析
來源資料
相關文獻
- ZnO薄膜沉積之前驅物氣化與擴散模組技術
- 應用於ZnO薄膜沉積系統中之雙通道氣體擴散裝置模擬分析
- 從活性離子蝕刻所產生的破壞和污染對低壓化學氣相沉積反應器中選擇性鎢金屬沉積之影響
- 氧化層厚度在矽晶元件上之研究
- 最新的LNG氣化裝置
- 低壓化學氣相沉積應用技術
- 透明導電膜製程設備之整合電控技術
- Growth Kinetics of Chemical-Vapor-Deposited Pb(Zr戓,Ti[fec5])O[feb0]Films from a Pb(C[feaf]H忦)[feb2]/Zr(O-t-C[feb2]H状)[feb2]/Ti(O-i-C[feb0]H乣)[feb2]/O[feaf] Reaction System
- 透明導電膜製程設備之整合電控技術
- LPCVD氧化鋅摻雜鎂,能帶改變及結構變化之探討
頁籤選單縮合
題名 | ZnO薄膜沉積之前驅物氣化與擴散模組技術=Technologies of Showerhead and Vaporizer in ZnO Chemical Vapor Deposition System |
---|---|
作者姓名(中文) | 林士欽; 黃智勇; 張家豪; 李侃峰; 江銘通; 梁沐旺; 王慶鈞; | 書刊名 | 機械工業 |
卷期 | 350 2012.05[民101.05] |
頁次 | 頁107-116 |
專輯 | 光電產業設備技術專輯 |
分類號 | 468.1 |
關鍵詞 | 透明導電玻璃; 氣體流場分布; 氣化裝置; 氣體擴散模組; 低壓化學氣相沉積; Transparent conductive glass; Gas flow distribution device; Vaporizer; Gas diffusion module; Low pressure chemical vapor deposition; |
語文 | 中文(Chinese) |