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| 題 名 | 下世代微影技術演進與現況=NGL Technology Evolution and Current Status |
|---|---|
| 作 者 | 陳維恕; | 書刊名 | 臺灣奈米會刊 |
| 卷 期 | 23 2010.12[民99.12] |
| 頁 次 | 頁27-36 |
| 專 輯 | 奈米電子 |
| 分類號 | 448.57 |
| 關鍵詞 | 微影技術; 微縮; 雙重圖案化; 電子束直寫; 奈米壓印; 光源-光罩同時最佳化; Lithography technology; Scaling; Double patterning; EBDW and nano-imprint; Source-mask co-optimization; |
| 語 文 | 中文(Chinese) |